2月7日,上海微电子举行首台2.5D/3D先进封装光刻机发运仪式,这标志着中国首台2.5D/3D先进封装光刻机正式交付客户。
先进封装光刻机是上海微电子目前的主打产品,全球市场占有率连续多年排名第一。此次发运的产品是新一代的先进封装光刻机,主要应用于高端数据中心高性能计算(HPC)和高端AI芯片等高密度异构集成领域,可满足2.5D/3D超大芯片尺寸的先封装应用需求,代表了行业同类产品的最高水平。
此前,上海微电子举行了新产品发布会,宣布推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。据悉,发布会推出的新品光刻机主要应用于高密度异构集成领域,具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点,可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装技术的应用,满足异构集成超大芯片封装尺寸的应用需求,同时将助力封装测试厂商提升工艺水平、开拓新的工艺,在封装测试领域共同为中国集成电路产业的发展作出更多贡献。
光刻机是国产芯片卡脖子关键所在,中国首台2.5D/3D先进封装光刻机的发运,对芯片行业有何影响呢?
事实上,光刻机主要可以分为前道光刻机、后道光刻机以及面板光刻机。其中,先进程度最高、市场规模最大的当属前道光刻机,其主要用于晶圆制造,而后道光刻机主要用于芯片封装。也就是说,此次发布的2.5D/3D先进封装光刻机并不能用于晶圆制造,而是用于后道封装。
先进封装不仅为封装厂商研发重点,台积电、英特尔等晶圆制造厂商也对先进封装尤为重视。这是因为,在后摩尔定律时代,各大晶圆制造厂商不再一味追求更小的线宽,而通过先进封装提升系统集成度也是提升芯片性能的可行之法。
目前,尚不知晓上海微电子这台2.5D/3D先进封装光刻机由哪家客户订购。此外值得一提的是,富士康半导体高端封测项目于2021年7月20日举行首台光刻工艺设备进场仪式,据悉,该型光刻设备便是SMEE(上海微电子)封装光刻机。
不是大就有用,要食脑.jpg (23.95 KB, 下載次數: 9)
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